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产品名称:
苏州AMAYA天谷 刚性和柔性的常压CVD设备
产品型号:
玻璃基板沉积设备
产品展商:
日本AMAYA天谷制作所
折扣价格:
0.00 元
关注指数:76
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AMAYA株式会社天谷制作所玻璃基板沉积设备
常压CVD装置，准备了满足顾客需求的产品阵容。同时，定做也对应。
对应于半导体制造用、太阳能电池制造用等各种用途。从少量生产到大量生产
形成SiO2、BPSG、BSG、PSG等各种膜种
采用SiC托盘防止重金属污染，从低温（200℃）到中温（500℃）区域可以广泛成膜
苏州AMAYA天谷 刚性和柔性的常压CVD设备
的详细介绍
日本AMAYA株式会社天谷制作所
用于刚性和柔性设备（如FPD）的常压CVD设备
玻璃基板沉积设备
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低温（150~300°C）处理
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高质量 SiO2 成膜低应力
、等离子体损伤、小颗粒
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占地面积小，降低了安装和维护成本
，无需真空或等离子处理低价
特征
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这是第4.5代玻璃基板沉积系统，与FPD等刚性和柔性器件兼容。
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配备两个气头，有效成膜宽度为760mm，吸附式加热阶段为吸附式加热阶段，温度可控性±2%以内。
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可以在4°C下在5.250代玻璃基板上以100片/小时或更高的速度沉积2nm SiO25薄膜，并且可以保证薄膜厚度均匀性在10%以内。
性能
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均匀的薄膜厚度
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±10%
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支持的玻璃基板尺寸
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4.5 代
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气体种类
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SiH4，O 3， PH3， B2H6
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薄膜沉积温度
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150~300°C
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主要规格
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设备尺寸
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1300毫米（宽） x 7350毫米（深） x 2000毫米（高）
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气头
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配备两个有效宽度为 760 mm 的气头，用于沉积
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