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AMAYA天谷株式会社12英寸连续常压CVD设备[产品打印页面]
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产品名称:
AMAYA天谷株式会社12英寸连续常压CVD设备
产品型号:
AMAX1200
产品展商:
日本AMAYA天谷制作所
折扣价格:
0.00 元
关注指数:17
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AMAYA株式会社天谷制作所AMAX1200
常压CVD装置，准备了满足顾客需求的产品阵容。同时，定做也对应。
对应于半导体制造用、太阳能电池制造用等各种用途。从少量生产到大量生产
形成SiO2、BPSG、BSG、PSG等各种膜种
采用SiC托盘防止重金属污染，从低温（200℃）到中温（500℃）区域可以广泛成膜
AMAYA天谷株式会社12英寸连续常压CVD设备
的详细介绍
日本AMAYA株式会社天谷制作所
12英寸连续常压CVD设备
AMAX1200
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12 英寸 每小时 51 张的吞吐量
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采用SiC托盘防止重金属污染的对策
特征
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这是传统AMAX系列中直径*大的12英寸晶圆加工设备。
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SiH63、PH4、B3H2和O6混合后，从优化的A2型分散头进行表面反应，在低温和低压下更有效地产生热化学反应。 可以获得优异的膜厚均匀性和杂质浓度均匀性。
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使用SiC托盘很难发生重金属污染。 此外，可以获得稳定的工艺性能，而由于热引起的老化很小。
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标配自动托盘更换功能，实现工人**，缩短维护时间。 此外，自动抬起头部底座的机构便于清洁。
性能
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均匀的薄膜厚度
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≦±3.0%
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支持的晶圆尺寸
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12寸
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气体种类
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SiH4， O 2， PH3， B 2 H6， N 2
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薄膜沉积温度
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~450°C
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生产力
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51张/小时FOUP兼容标准机
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主要规格
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设备尺寸
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2165毫米（宽） x 4788毫米（深） x 2250毫米（高）
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加热机构
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电阻加热
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装载卸载
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机器人 CtoC 运输
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分散头（气体喷嘴）
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A63 头（标准 3 头）
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