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产品名称:
日本天谷AMAYA株式会社制作常压CVD设备
产品型号:
D501系列
产品展商:
日本AMAYA天谷制作所
折扣价格:
0.00 元
关注指数:7
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AMAYA株式会社天谷制作所D501系列
常压CVD装置，准备了满足顾客需求的产品阵容。同时，定做也对应。
对应于半导体制造用、太阳能电池制造用等各种用途。从少量生产到大量生产
形成SiO2、BPSG、BSG、PSG等各种膜种
采用SiC托盘防止重金属污染，从低温（200℃）到中温（500℃）区域可以广泛成膜
日本天谷AMAYA株式会社制作常压CVD设备
的详细介绍
日本AMAYA株式会社天谷制作所
用于小规模生产和开发的柔性常压CVD设备
D501系列
特征
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这是一种间歇式常压CVD系统，其中多个晶圆被装入一个大托盘中，托盘在分散头下往复运动以形成薄膜。
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它可用于变形的基材。
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它具有紧凑的仪器尺寸和较小的占地面积。
性能
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均匀的薄膜厚度
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取决于薄膜类型和厚度
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支持的晶圆尺寸
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根据可加热区
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气体种类
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SiH4， O 2， PH 3， B 2 H6， N 2（TEOS， TEB， TMOP，O 3， TMA 可选）
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薄膜沉积温度
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350°C~450°C
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生产力
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主要规格
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设备尺寸
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1200毫米（宽） x 2480毫米（深） x 1940毫米（高）
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加热机构
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电阻加热
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装载卸载
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手动方法
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分散头（气体喷嘴）
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A63头
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