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产品名称:
代理AMAYA天谷制作所 单晶圆常压CVD装置
产品型号:
A200V
产品展商:
日本AMAYA天谷制作所
折扣价格:
0.00 元
关注指数:20
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AMAYA株式会社天谷制作所
常压CVD装置，准备了满足顾客需求的产品阵容。同时，定做也对应。
对应于半导体制造用、太阳能电池制造用等各种用途。从少量生产到大量生产
形成SiO2、BPSG、BSG、PSG等各种膜种
采用SiC托盘防止重金属污染，从低温（200℃）到中温（500℃）区域可以广泛成膜
代理AMAYA天谷制作所 单晶圆常压CVD装置
的详细介绍
AMAYA株式会社天谷制作所
采用面朝下法的高性能单晶圆常压CVD装置
A200V
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薄膜厚度均匀度在±2%以内
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抑制粒子生成
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紧凑的设备配置
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良好的阶跃覆盖率
特征
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在这种方法中，晶圆沉积表面被上卡盘夹住，晶圆朝向底部，工艺气体从底部的分散头吹出形成薄膜。 卡盘提高了晶圆内温度均匀性，并提供出色的厚度均匀性，同时防止气体包围晶圆背面，防止背面沉积并防止颗粒粘附在晶圆上并进入腔室。
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设备尺寸已尽可能紧凑，以*大程度地减少占用空间。
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使用封闭腔室可消除气体泄漏并提高操作员的**性。
性能
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均匀的薄膜厚度
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≦±2%
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支持的晶圆尺寸
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≦8英寸
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气体种类
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SiH4， O 2， PH 3， B 2 H6， N 2（TEOS， TEB， TMOP，O 3可选）
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薄膜沉积温度
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300°C~450°C
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生产力
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20张/小时（500nm成膜）
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主要规格
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设备尺寸
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890毫米（宽） x 2300毫米（深） x 2250毫米（高）
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加热机构
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电阻加热
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装载卸载
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双滑块，机器人CtoC运输
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分散头（气体喷嘴）
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圈
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