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产品名称:
反射式膜厚量测仪
产品型号:
cp-002
产品展商:
OTSUKA大冢光学
折扣价格:
0.00 元
关注指数:440
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产品特点
非接触式、不破坏样品的光干涉式膜厚计。
高精度、高再现性量测紫外到近红外波长反射率光谱，分析多层薄膜厚度、光学常数(n:折射率、k:消光系数)。
宽阔的波长量测范围。(190nm~1100nm)
薄膜到厚膜的膜厚量测范围。(1nm~250μm)
对应显微镜下的微距量测口径。
反射式膜厚量测仪
的详细介绍
产品特点
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非接触式、不破坏样品的光干涉式膜厚计。
-
高精度、高再现性量测紫外到近红外波长反射率光谱，分析多层薄膜厚度、光学常数(n:折射率、k:消光系数)。
-
宽阔的波长量测范围。(190nm~1100nm)
-
薄膜到厚膜的膜厚量测范围。(1nm~250μm)
-
对应显微镜下的微距量测口径。
量测项目
产品规格
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型号
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标准型
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厚膜专用型
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样品大小
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*大200mm×200mm×7（厚度）mm
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可测层数
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*1
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膜厚范围
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1nm~40μm
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0.8μm~210μm
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1μm~240μm
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80μm~1mm
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波长范围
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190nm~760nm
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230nm~800nm
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330nm~1100nm
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430nm~970nm
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750nm~850nm
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900nm~1600nm
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1490nm~1590nm
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测试单元
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CCD
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CCD
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CCD
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PDA
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PDA
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InGaAs
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InGaAs
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膜厚精度
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±0.1nm（以NIST认证的标准样品为依据）*2
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重复性精度（2.1σ）
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膜厚测试（Si基板上的SiO膜
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100nm未满：0.1nm*3
100nm以上：0.07%
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反射率测试（Si基板）
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230nm~250nm：0.8%*4
250nm~800nm：0.4% *4
800nm~1050nm：0.8%*4
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测试光斑*5
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φ40μm<×5倍>、φ20μm<×10倍>、φ10μm<×20倍>、φ6.6μm<×30倍>、φ5μm<×40倍>
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对物镜头
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反射式对物镜头倍数：×10倍、×20倍、×30倍、×40倍
折射式对物镜头（可视）：×5倍、×10倍、×20倍
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测试光源
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D 2(紫外光)、I 2(可见光)、D 2 +I 2(紫外-可见光)
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XYZ stage
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自动stage
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手动stage
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行程
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X：200mm、Y：250mm、Z：10mm
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X：200mm、Y：250mm、Z：10mm
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重复性精度
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2μm<0.5μm>
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驱动分辨率
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1μm<0.1μm>
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-
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尺寸·重量
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481（W）mm×770（H）mm×714（D）mm约96kg
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427（W）mm×770（H）mm×725（D）mm约88kg
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控制单元
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自动stage
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手动stage
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尺寸·重量
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300（W）mm×710（H）mm×450（D）mm约34kg
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300（W）mm×380（H）mm×450（D）mm约18kg
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电源 规格
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AC100V±10V 750VA
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AC100V±10V 500VA
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软件
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测试
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手动测试/连续测试/制图测试（mapping）/测试与计算同步功能
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解析
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非线性*小二乘法/波峰波谷解析法/FFT解析法/*适化法
基板解析/里面反射补正/各类nk解析模型式
**反射率/解析结果Fitting/折射率n的波长相关性/消光系数k的波长相关性
3D显示功能（面内膜厚分布、鸟窥图、等高线、断面图）
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系统维护
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材料文件构建（database管理）、硬件的各种设定
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其它
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样品对焦的数值显示功能、自动对焦功能（自动stage有此功能）、内部反射补正功能
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数据处理
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数据处理
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台式电脑、显示器、打印机
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*1具体请咨询本公司。
*2以VLSI公司的标准样品(100nm SiO2/Si)范围值保证书为依据。
*3量测VLSI公司的标准样品(100nm SiO2/Si)同一点位时之重复性。(2.1倍σ)
*4具体参照相关保证书。
*5镜头为选配件，具体请咨询本公司。
应用范围
■ FPD
・LCD、TFT、OLED(有机EL)
■ 半导体、复合半导体
・矽半导体、半导体雷射、强诱电、介电常数材料
■ 资料储存
・DVD、磁头薄膜、磁性材料
■ 光学材料
・滤光片、抗反射膜
■ 平面显示器
・液晶显示器、薄膜电晶体、OLED
■ 薄膜
・AR膜
■ 其它
・建筑用材料
量测范围
玻璃上的二氧化钛膜厚、膜质分析