mabuchistsz马渊光谱-单面精密研磨机SW-300
不存在平台平面度偏差的问题,工件始终平坦。
无需抛光技术,任何人都可以轻松确保平面度。
特征
可轻松快速地将脆性材料基板(蓝宝石、SiC、GaN等)抛光至高精度平坦表面。其他公司生产的抛光机随着时间的推移,平台会发生变形,导致工件的平整度恶化。我们开发了一种机构,通过消除导致平台偏差的工件自由度,使平台和吸引工件的真空吸盘表面的平面度完全平行(正在申请**)。利用该机构,操作者可以从迄今为止一直令人烦恼的平台平面度控制中解放出来,并且可以在保持稳定的平面度的同时进行抛光生产。另外,加工直径为Φ250,可批量加工,生产率高。
过载检测系统
如果磨削过程中施加的负载超过设定值,进给将停止并保持位置。如果负载进一步增加,则反转进给,释放应力,然后重新进给。
零接触系统
装置检测平台与工件的接触点,并自动设定原点。
间歇进给系统
通过重复进给和间隔进行抛光。
其间,磨粒很容易进入平台与工件之间,提高抛光率。
工件尺寸管理
通过线性标尺读取上轴的进给移动量并进行控制,因此可以控制工件的抛光量。 现在可以进行**的尺寸管理,而无需
像以前那样根据速率计算和设置抛光时间。
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